光刻机板块 1 月 7 日表现强势，芯源微20CM 涨停；鼎龙股份大涨超 10%；珂玛科技、华特气体、腾景科技、新莱应材等也明显上涨。
综合市场观点来看，光刻机的走强，在于 AI 的爆发带来算力需求的激增，从而导致存储芯片等产品的需求激增，进而带动半导体设备需求的激增。
以存储芯片为例，1 月 7 日当天就有多个 「爆炸性」 消息。一是 「1 盒内存条堪比上海 1 套房」 登上了微博热搜前三；二是黄仁勋在 CES2026 上表示，英伟达是世界上购买存储芯片最大的公司之一。
在供应趋紧，需求激增下，存储芯片进入了显著的涨价周期。国金证券表示，2025 年 DDR4 16Gb 涨幅高达 1800%，DDR5 16Gb 涨幅高达 500%，512Gb NAND 闪存涨幅高达 300%。另据财联社援引报道，三星与 SK 海力士近期已向服务器、PC 及智能手机用 DRAM 客户提出涨价，2026 年一季度报价将较 2025 年第四季度上涨 60%-70%。
在这样的背景下，市场对于半导体设备的需求增长也有乐观预期。国际半导体产业协会 （SEMI） 最新数据显示，2025 年全球原始设备制造商 （OEM） 的半导体制造设备总销售额预计达 1330 亿美元，同比增长 13.7%，创历史新高。预计未来两年将继续增长，2026 年和 2027 年分别达到 1450 亿美元和 1560 亿美元。
而光刻机是半导体设备中最复杂，价值量最高的一环。山西证券根据 《半导体制造光刻机发展分析》 统计，芯片生产产线建设中，光刻机购置成本最高，达到设备总投资的 21%-23%，光刻工艺耗时占生产环节的一半，制造成本占到芯片制造成本的 30% 以上，光刻机成为半导体制造的核心设备。
有券商研报表示，从技术迭代来看，光刻机经历了 UV（g-Line、i-Line）、DUV（KrF、ArF、ArFi）、EUV 的历程。其中 1990 年代，深紫外 （DUV） 光源的应用，使工艺节点将至百纳米以下。2013 年，极紫外 （EUV） 光源实现产业化，成为 7nm 及以下先进制程的关键方案。
从全球格局来看，国金证券表示，ASML（阿斯麦） 凭借其在高端光刻机领域的技术优势，仍占据了全球光刻机市场大部分的份额，特别是在 EUV 光刻机领域，ASML 是全球唯一的供应商。
个股而言，光刻机概念可关注整机研发 （张江高科、苏大维格等）、核心部件 （珂玛科技、赛微电子等）、配套设备 （芯源微、新莱应材等）、配套材料 （中船特气、航天智造等） 等细分板块。
往后看，华创证券表示，政策端 「02 专项」 体系化布局曝光光学，双工件台，漫液系统等核心环节，推动国产技术快速迭代，上海微电子，华卓精科等已在 90nm ArF 机型与双工件台实现突破。未来在政策，需求与验证三重驱动下，国产光刻机有望进入商业化加速阶段。
（东方财富研究中心）
文章转载自东方财富
