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美国撤销三星、SK 海力士、英特尔在华 VEU 豁免 存储国产化窗口期再度打开

来自 金桂财经
2025 年 8 月 30 日
在 24 小时
0

作者:
陈佳岚

  8 月 30 日,《中国经营报》 记者查询联邦公报 (Federal Register) 于 2025 年 8 月 29 日归档的文件了解到,特朗普政府已决定撤销三星电子、SK 海力士在中国业务的 「验证最终用户」(Validated End-User, VEU) 授权。这一政策变动将于公告发布后 120 天生效,旨在进一步限制中国获取先进芯片制造技术,或将加剧全球半导体供应链的紧张局势。

  探索科技首席分析师王树一对记者分析,三星与海力士在华产能可观,若美方完全切断供应链,短期内非美替代跟进难度较大,现有产能外迁亦时间不足,或将引发存储器供给紧张。

  VEU 是美国商务部工业与安全局 (BIS) 设立的一种制度,旨在简化对受信任的、低风险的外国最终用户的出口流程。被列入 VEU 清单的企业,可以从美国进口指定的受管制物项 (包括半导体设备和技术) 而无须再单独申请出口许可证。

  根据美国商务部工业与安全局修订的 《出口管理条例》(EAR),美国将从中国 VEU 授权列表中移除三星中国半导体有限公司 (Samsung China Semiconductor Co. Ltd.)、SK 海力士半导体 (中国) 有限公司 [SK hynix Semiconductor (China) Ltd.] 以及英特尔半导体 (大连) 有限公司 [Intel Semiconductor (Dalian) Ltd.]。此前,这些公司享有 VEU 豁免,可无须逐笔申请许可证,直接从美国进口芯片制造设备到其位于中国的工厂。撤销后,这些企业必须为每笔相关交易申请单独出口许可证。

  资料显示,三星中国半导体有限公司成立于 2012 年,是三星电子为推进其存储芯片业务全球布局,投巨资在西安建设的半导体制造工厂。当前,三星西安工厂是全球最大的 NAND 闪存生产基地之一。

  SK 海力士半导体 (中国) 有限公司成立于 2005 年,位于江苏省无锡市,是存储芯片制造商韩国 SK 海力士最大规模海外生产基地,主要生产 DRAM。

  英特尔半导体 (大连) 有限公司成立于 2006 年,曾是英特尔在华重要的 NAND 闪存生产基地。2020 年 10 月,SK 海力士与英特尔达成协议,以 90 亿美元整体收购后者 NAND 闪存及 SSD 业务,交易分两个阶段,SK 海力士于 2021 年完成对英特尔 NAND 和 SSD 业务的首笔交割,截至 2025 年 3 月,SK 海力士已完成对英特尔 NAND 业务及大连工厂的全面收购,工厂现由 SK 海力士全资子公司运营。

  撤销 VEU 意味着三家公司在中国工厂的半导体生产 (如 NAND、DRAM) 将面临更严格审查,可能影响供应链和产能扩张。

  国内集成电路行业专业人士认为,这一举措将给三星、SK 海力士在华工厂带来产能冻结、资本开支被迫外迁、客户转移、供应链再分配等诸多风险。在供应链再分配方面,国产模组厂 (比如江波龙、佰维、时创意) 短期或受益。

  国内集成电路行业专业人士亦表示,存储国产化的窗口机遇再次打开,国产存储厂商长江存储、长鑫存储将获得更明确的市场缺口和发展机遇。而中微公司、北方华创、拓荆等设备与材料的国产替代紧迫性随之上升。

  报道显示,长江存储正深化与本土工具制造商,如专门从事蚀刻设备的中微公司、专注于沉积和蚀刻设备的北方华创、沉积设备供应商拓荆科技的合作,加速替换外国设备。这可能提升本土公司在光刻胶、蚀刻机等领域的竞争力,甚至是成熟工艺的竞争力。

  「120 天的缓冲期,政策再有变化也有可能。」 王树一同时指出,事件或仍有回旋余地,停产概率不高。长期来看,美国以限制中国为由损害盟友商业利益,将反噬自身,并加速非美生态壮大。

(中国经营报)

文章转载自东方财富

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